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辐射型全自动CVD/PVD沉积系统简介
苏州思博露光伏能源科技有限公司提供
目录
一、 Cluster系统
二、 Cluster系统组成部分简介
辐射型全自动CVD/PVD沉积系统简介
一、Cluster系统
辐射型全自动CVD/PVD沉积系统，又称Cluster系统。
长期以来，中国的半导体工业往往受制于美日等发达国家，核心器件依赖于进口，高校及研究所的研究水平也与国际水平差距很大，究其原因，很大程度上在于中国没有先进的半导体制造设备，无法获得高质量的半导体材料，因而也无法制造出高质量的器件。
Cluster半导体薄膜沉积系统是现代半导体材料和器件研发以及IC集成电炉生产的最先进的半导体薄膜制造设备。目前已经在国际上得到广泛的运用，中国现在主要是在半导体集成电炉生产中成套进口的生产线上使用，在科研的使用还是刚刚起步。为了对需要该设备的大多数用户所能承担，思博露引进美国技术，并且对其技术进行彻底消化，合理的利用中国本土机械制造资源，关键部件采用国际最好品牌，在保证先进的技术基础之上，使其制造成本大大的降低。
图1
图1为思博露为某客户提供的多功能辐射型全自动PECVD系统。该系统由七个腔室组成，其中一个为传输室位于设备的中央，其余分别为装载室、P型非晶硅薄膜沉积室、N型非晶硅薄膜沉积室、SiNx薄膜沉积室、I型非晶硅薄膜沉积室、热丝工艺沉积室。各室可以独立完成沉积工作。中央室是负责将样品传输到各个室的枢纽，其工作由高精度的机械臂完成。
整个系统的所有关键零部件均采用国际顶级的品牌。系统通过计算机控制，达到完全自动，通过设定参数便可以沉积相应的薄膜。
思博露可以根据用户的需求，提供个性化的设计。
二、Cluster系统组成部分简介
1、中央室
图2
通过一台高性能的机械臂负责将样品传输到目的室。中央室与其它室之间通过插板阀隔开。中央室的存在，大大的减少了，其余几个室的交叉污染。
2、沉积室部分
图3
各沉积室之间相互独立，可以通过计算机设定沉积参数。
3、供气系统
图4为Cluster系统的供气装置。供气系统的零部件均采用Swagelog气路部件，系统严格按照半导体系统要求所设计，全自动焊机焊接气体管路。此外我们也可以根据用户提供的要求，对气路进行个性化的设计。努力做到安全、稳定、精密、美观。
图4
4、自控部分
全自动运行是Cluster先进性能的体现。系统的整个沉积过程均全自动，可以通过计算机对每个腔室的参数进行单独的设定，系统将按照设定的参数运行，不但设计灵活而且排除了人为所产生的不确定因素。
为了确保控制部分的稳定性，控制系统的核心部件采用美国OPTO22公司的产品，控制部件终身保修。
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